特点
与一般抗蚀剂兼容
二维分割光棚成像系统
自动缩放，自动校准
与一般抗蚀剂兼容
二维分割光棚成像系统
自动缩放，自动校准
产品信息
SLM和我们光学技术的结合使超高压水银灯作为光源成为可能，它是第一个被直接成像机器采用的。曝光机采用了350-420mm的波长，这样您用於一次曝光的抗蚀剂就不会有兼容问题。该设备有一个二维分割光棚成像系统。我方研究的先进的录音磁头可以实现最小线幅20um，线幅精度2um左右的高精度，高品质成像。高精度校准，先进的定位精确度成为可能。
SLM和我们光学技术的结合使超高压水银灯作为光源成为可能，它是第一个被直接成像机器采用的。曝光机采用了350-420mm的波长，这样您用於一次曝光的抗蚀剂就不会有兼容问题。该设备有一个二维分割光棚成像系统。我方研究的先进的录音磁头可以实现最小线幅20um，线幅精度2um左右的高精度，高品质成像。高精度校准，先进的定位精确度成为可能。
